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| 极紫外光刻研制进展 | |
| 作者姓名： | 咏涛 |
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| 摘 要： | 25年前，运算能力相当于今天的笔记本电脑的计算机，其硬件可要装满一间房子，其穿孔卡载满一卡车。自那时以来，计算机已变得小巧得多，而且运算能力越来越强。这主要归功于光刻技术的进步。光刻基本上是一种照像技术，可将越来越多的部件装入计算机芯片内。将光导向一块掩模板（其上有集成电路图案），并将图案成像到有光敏光致抗蚀剂的半导体芯片上。产生电路的部件愈来愈小，便需要使用越来越短的光波长。现有的光刻技术使用深紫外波段的光，其波长约为248nm，在芯片上印出150~120nm尺寸的部件。在未来几年，制造商计划制造100~70nm部件… |
| 关 键 词： | 极紫外光刻 光刻技术 半导体制造 虚拟试验室 EUVL |
| 收稿时间： | 2002-09-17 |
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