| 阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究 |
| |
| 引用本文： | 卢春灿,聂朝胤,潘婧,贾晓芳,谢红梅,杨娟.阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究[J].材料导报,2010,24(10). |
| |
| 作者姓名： | 卢春灿 聂朝胤 潘婧 贾晓芳 谢红梅 杨娟 |
| |
| 作者单位： | 西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715 |
| |
| 基金项目： | 重庆市科技攻关计划项目 |
| |
| 摘 要： | 采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜.采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜.当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳.离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善.
|
| 关 键 词： | 阳极线性离子源 磁控溅射 低温 氮化钛 结合强度 |
Research on TiN Films Deposited by Anode Linear Ion Source Assisted Magnetron Sputtering |
| |
| LU Chuncan,NIE Chaoyin,PAN Jin,JIA Xiaofang,XIE Hongmei,YANG Juan.Research on TiN Films Deposited by Anode Linear Ion Source Assisted Magnetron Sputtering[J].Materials Review,2010,24(10). |
| |
| Authors: | LU Chuncan NIE Chaoyin PAN Jin JIA Xiaofang XIE Hongmei YANG Juan |
| |
| Affiliation: | LU Chuncan,NIE Chaoyin,PAN Jin,JIA Xiaofang,XIE Hongmei,YANG Juan(School of Materials Science , Engineering,Southwest University,Chongqing 400715) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | anode linear ion source magnetron sputtering low temperature TiN adhesion strength |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
