| 溅射SiO2薄膜动力学分析 |
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| 引用本文： | 王慧.溅射SiO2薄膜动力学分析[J].陶瓷(咸阳),2008(10). |
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| 作者姓名： | 王慧 |
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| 作者单位： | 中国建筑材料科学研究总院石英重点实验室,北京,100024 |
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| 摘 要： | 使用蒙特卡罗法模拟了SiO2薄膜的生长过程,并利用沉积中三过程(吸附、扩散、脱附)的速率公式推导分析沉积过程中温度和粒子入射能量对薄膜质量的影响.温度较低时(100℃),薄膜中的空位密度相对较高,随着温度的升高(300℃),薄膜中的空位密度逐渐降低,温度继续升高时,则衬底温度对薄膜致密度的影响趋于平缓,200～300℃下制备的SiO2薄膜其表面质量最优.通过溅射原子能量角分布表达式分析入射靶离子能量决定溅射原子能量大小及其分布,得出Si靶溅射出的原子能量较大,可得质量较好的薄膜.
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| 关 键 词： | 蒙特卡罗法 薄膜 表面质量 |
Kinetics Analyse of the Sputtering SiO2 Film |
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| Wang Hui.Kinetics Analyse of the Sputtering SiO2 Film[J].Ceramics,2008(10). |
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| Authors: | Wang Hui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiO2 |
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