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GaAlAs/GaAs外延层多层膜X射线干涉条纹的研究
作者姓名:高大超  冯禹臣  袁佑荣
作者单位:中国科学院长春物理研究所 长春 (高大超,冯禹臣),中国科学院长春物理研究所 长春(袁佑荣)
摘    要:作者在MBE法和LPE法生长的GaAlAs/GaAs外延片中观察到了多层膜的X射线干涉条纹.用X射线双晶测角仪记录了这种干涉条纹,并从条纹振荡的周期计算出外延片中相应外延层的厚度.在实验样品具有一定曲率半径(在本实验条件下10—30米)的情况下,用X射线双晶形貌法摄取了这种干涉条纹相,并对弯曲外延片的成相几何进行了分析;通过测量貌相图上干涉条纹的振荡周期,计算出了外延片的曲率半径.

关 键 词:X射线  GaAlAs/GaAs  干涉条纹  双晶形貌  迴摆曲线
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