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| 光刻机光强影响因素分析 | |
| 作者单位： | ;1.中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 摘 要： | 曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。 |
| 关 键 词： | 光刻机 曝光系统 曝光强度 |
The Influence Factors Analysis of Mask Aligner's Exposure Intensity |
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