| 高纯钴制备中痕量铜杂质去除工艺的研究 |
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| 引用本文： | 刘丹,李轶轁,贺昕. 高纯钴制备中痕量铜杂质去除工艺的研究[J]. 有色金属工程, 2014, 4(1) |
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| 作者姓名： | 刘丹 李轶轁 贺昕 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院 |
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| 摘 要： | 采用离子交换法在Co2 =60g.L-1，Cu2 =5mg.L-1氯化钴体系中进行了铜杂质去除的研究，考察了树脂种类、温度，pH值、电解进液方式对除铜效果的影响。结果表明：料液温度为20℃～30℃，pH=2～5时，树脂DI除铜效果最佳，净化后料液中Cu＜0.1mg.L-1，且交换容量大，容易再生，采用逆流进液方式隔膜电解，电积钴经辉光放电质谱法（GD-MS）全元素（73个）分析，纯度可达99.9995%。
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| 关 键 词： | 高纯钴 除铜 隔膜电解 辉光放电质谱法 |
| 收稿时间： | 2013-06-04 |
| 修稿时间： | 2013-06-07 |
Study on Trace Copper Impurities Removal for Preparing High Purity Cobalt |
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| LIU Dan,LI yitao and HE Xin. Study on Trace Copper Impurities Removal for Preparing High Purity Cobalt[J]. Nonferrous Metals Engineering, 2014, 4(1) |
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| Authors: | LIU Dan LI yitao HE Xin |
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| Affiliation: | General Research Institute for Nonferrous Metals,Grikin Advanced Materials Co.,Ltd,General Research Institute for Nonferrous Metals,Grikin Advanced Materials Co.,Ltd,General Research Institute for Nonferrous Metals,Grikin Advanced Materials Co.,Ltd |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | high-purity cobalt removing copper diaphragm electrolysis glow discharge mass spectrometre (GD-MS) |
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