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| X射线成像技术揭示纳米级结构 | |
| 摘 要： | 目前,业界的芯片设计水平正在由90nm向65nm迈进,很快就将进入"亚纳米"时代,同时也会对流行已久的成熟EDA方法学提出新的需求,其中最为关键的问题是在设计规则验证(DRC)和可制造性设计(DFM)等方面. |
| 关 键 词： | 芯片设计 DFM 可制造性设计 设计水平 设计规则 亚纳米 方法学 EDA |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
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