| Ti5Si3电极层表面沉积BST薄膜及其介电性能研究 |
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| 引用本文： | 任招娣,杜丕一,徐铭,翁文剑,韩高荣,沈鸽. Ti5Si3电极层表面沉积BST薄膜及其介电性能研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2008, 37(Z1): 455-458 |
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| 作者姓名： | 任招娣 杜丕一 徐铭 翁文剑 韩高荣 沈鸽 |
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| 作者单位： | 浙江大学,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50672084) |
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| 摘 要： | 使用溶胶-凝胶法在涂覆有Ti5Si3电极层的玻璃基板上成功制备了Ba/Sr为64的BST薄膜,并对该薄膜在600℃进行了热处理.使用XRD,阻抗分析仪对薄膜进行了测试,研究了不同热处理条件对薄膜介电性能的影响.结果表明,由于非氧化物Ti5Si3电极层中氧空位等缺陷含量少,因此可成功制备缺陷少,质量良好的BST薄膜.快速升温可得到的薄膜晶相含量较多,多次重复热处理使薄膜中晶相的缺陷相对较少;控制薄膜的热处理条件,可以控制薄膜的电容和损耗.
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| 关 键 词： | 溶胶-凝胶 BST Ti5Si3 结晶 |
| 文章编号： | 1002-185X(2008)S1-455-04 |
| 修稿时间： | 2007-09-10 |
Preparation and Dielectric Properties of BST Films Deposited on Ti5Si3 Electrode Layer |
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| Ren Zhaodi,Du Piyi,Xu Ming,Weng Wenjian,Han Gaorong,Shen Ge. Preparation and Dielectric Properties of BST Films Deposited on Ti5Si3 Electrode Layer[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2008, 37(Z1): 455-458 |
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| Authors: | Ren Zhaodi Du Piyi Xu Ming Weng Wenjian Han Gaorong Shen Ge |
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