半导体工业中气体的应用技术 |
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引用本文: | 冈田隆,李文洙,韩美,刘振烈.半导体工业中气体的应用技术[J].低温与特气,1983(1):71-78. |
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作者姓名: | 冈田隆 李文洙 韩美 刘振烈 |
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作者单位: | 不详 |
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摘 要: | 在实现大规模集成电路和电路元件微型化的过程巾,低温过程和干燥过程是不可缺少的。作为实现上述目的的手段,陆续开发了减压下的薄片工艺,bing且进一步提高了对气体应用技术重要世的认识。本文以硅集成电路为例,对所用气体的种类、特性,以及气体的供应和控制系统作了扼要叙述。
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关 键 词: | 应用技术 半导体工业 气体 大规模集成电路 硅集成电路 电路元件 干燥过程 控制系统 微型化 |
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