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半导体工业中气体的应用技术
引用本文:冈田隆,李文洙,韩美,刘振烈.半导体工业中气体的应用技术[J].低温与特气,1983(1):71-78.
作者姓名:冈田隆  李文洙  韩美  刘振烈
作者单位:不详
摘    要:在实现大规模集成电路和电路元件微型化的过程巾,低温过程和干燥过程是不可缺少的。作为实现上述目的的手段,陆续开发了减压下的薄片工艺,bing且进一步提高了对气体应用技术重要世的认识。本文以硅集成电路为例,对所用气体的种类、特性,以及气体的供应和控制系统作了扼要叙述。

关 键 词:应用技术  半导体工业  气体  大规模集成电路  硅集成电路  电路元件  干燥过程  控制系统  微型化
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