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氮气含量对射频磁控溅射法制备的 AlN 薄膜微观结构与力学性能的影响
引用本文:余志明,刘丹瑛,魏秋平,张雄伟,龙 芬,罗嘉祺,王一佳.氮气含量对射频磁控溅射法制备的 AlN 薄膜微观结构与力学性能的影响[J].粉末冶金材料科学与工程,2014(1):101-107.
作者姓名:余志明  刘丹瑛  魏秋平  张雄伟  龙 芬  罗嘉祺  王一佳
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