氮气含量对射频磁控溅射法制备的 AlN 薄膜微观结构与力学性能的影响<b class=markJ>简</b> 期刊界 All Journals 搜尽天下杂志传播学术成果专业期刊搜索期刊信息化学术搜索

氮气含量对射频磁控溅射法制备的 AlN 薄膜微观结构与力学性能的影响简

作者姓名：	余志明刘丹瑛魏秋平张雄伟龙芬罗嘉祺王一佳

摘要：
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