| 微波等离子体低温制备氮杂二氧化钒薄膜 |
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| 引用本文： | 陈金民,黄志良,刘羽,王升高. 微波等离子体低温制备氮杂二氧化钒薄膜[J]. 功能材料, 2007, 38(5): 743-745,749 |
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| 作者姓名： | 陈金民 黄志良 刘羽 王升高 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学,湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学,湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学,湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学,湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430073 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金 , 湖北省科技厅科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,在低温条件下,成功制备了氮杂二氧化钒薄膜.通过X射线衍射(XRD),FT-IR对样品进行表征,结果表明:合成的样品为多晶氮杂二氧化钒.相变温度测试结果表明:退火工艺可以降低相变温度,同时提高薄膜的结晶度;改变氮气流量,相变温度先降低后升高,当氮气流量为20ml/min时,相变温度可以降低至40℃.
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| 关 键 词： | 微波等离子体 VO2 氮杂二氧化钒 相变温度 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）05-0743-03 |
| 修稿时间： | 2006-11-012007-01-19 |
Synthesis VO2-xNy thin films by microwave plasma at low temperature |
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| CHEN Jin-min,HUANG Zhi-liang,LIU Yu,WANG Sheng-gao. Synthesis VO2-xNy thin films by microwave plasma at low temperature[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(5): 743-745,749 |
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| Authors: | CHEN Jin-min HUANG Zhi-liang LIU Yu WANG Sheng-gao |
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| Affiliation: | Hubei Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advance Materials, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430074,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microwave plasma VO2 nitrogen doped VO2-xNy phase transition temperature thin film |
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