| 中频交流反应溅射TiO2薄膜的制备及性能研究 |
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| 作者单位： | 侯亚奇（清华大学机械工程系,北京,100084）;庄大明（清华大学机械工程系,北京,100084）;张弓（清华大学机械工程系,北京,100084）;吴敏生（清华大学机械工程系,北京,100084） |
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| 基金项目： | 清华大学机械工程学院基础研究基金资助项目 |
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| 摘 要： | 利用中频交流磁控溅射设备用金属Ti靶制备出了TiO2薄膜.用椭偏仪测试了TiO2薄膜的厚度和折射率,用俄歇电子能谱、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和紫外及可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的表面成分、表面形貌、晶体结构及其紫外及可见光透射谱,并初步探讨了工艺因素对薄膜性质的影响.实验结果表明所制备的氧化钛薄膜O/Ti比符合化学计量比,而且O/Ti比随O2流量的变化不大;TiO2薄膜结构主要为锐钛矿型;薄膜表面致密;TiO2薄膜光学性能较好,透射比较高;但O2流量较低时透射比明显下降.
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 中频交流磁控溅射 光催化降解 锐钛矿 |
| 文章编号： | 0253-9748(2001)06-0457-04 |
| 修稿时间： | 2001年1月2日 |
Growth and Properties of Titanium Oxide Film by Medium Frequency Alternative
Reactive Magnetron Sputtering |
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