| F掺杂SnO2透明导电薄膜微结构及性能研究 |
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| 引用本文： | 莫建良,陈华,曹涯雁,刘起英,汪建勋,翁文剑,韩高荣.F掺杂SnO2透明导电薄膜微结构及性能研究[J].太阳能学报,2004,25(2):152-156. |
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| 作者姓名： | 莫建良 陈华 曹涯雁 刘起英 汪建勋 翁文剑 韩高荣 |
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| 作者单位： | 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,材料科学与工程学系,杭州,310027
2. 浙江大学蓝星新材料技术有限公司,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家863高技术计划(2001AA320202) |
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| 摘 要： | 通过实验测量常压热分解CVD工艺制备的F掺杂SnO2薄膜的方块电阻、膜厚、形貌、微结构、中远红外反射率等性质，详细研究了基板温度对SnO2薄膜微结构的影响和微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。研究发现，将基板温度从375℃提高到525℃以上，薄膜结晶程度大大提高，薄膜厚度从25nm提高到近300nm，方块电阻下降了两个数量级，中远红外的反射率达到了85％以上.
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| 关 键 词： | CVD F掺杂SnO2薄膜 微结构 性能 |
MICROSTRUCTURE AND PROPERTIES OF SnO2:F FILMS PREPARED BY APCVD METHOD |
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| Mo Jianliang,Chen Hua,Cao Yayan,Liu Qiying,Wang Jianxun,Weng Wenjian,Han Gaorong s Sci.& Eng.of Zhejiang University,Hangzhou ,China, .Blue Star New Materials Technology Co.Ltd of Zhejiang University,Hangzhou ,China.MICROSTRUCTURE AND PROPERTIES OF SnO2:F FILMS PREPARED BY APCVD METHOD[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2004,25(2):152-156. |
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| Authors: | Mo Jianliang Chen Hua Cao Yayan Liu Qiying Wang Jianxun Weng Wenjian Han Gaorong s Sci& Engof Zhejiang University Hangzhou China Blue Star New Materials Technology CoLtd of Zhejiang University Hangzhou China |
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| Affiliation: | Mo Jianliang~1,Chen Hua~2,Cao Yayan~2,Liu Qiying~2,Wang Jianxun~2,Weng Wenjian~1,Han Gaorong~1 s Sci.& Eng.of Zhejiang University,Hangzhou 310027,China, 2.Blue Star New Materials Technology Co.Ltd of Zhejiang University,Hangzhou 310027,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD SnO_2 F Films Microstructure Properties |
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