|
|||||
|
|
| 聚苯乙烯一维纳米阵列的图案化 | |
| 引用本文： | 邵增军,彭智,宋国君,姜宁,王树龙.聚苯乙烯一维纳米阵列的图案化[J].功能材料,2008,39(11). |
| 作者姓名： | 邵增军 彭智 宋国君 姜宁 王树龙 |
| 作者单位： | 青岛大学高分子材料研究所,山东青岛266071 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 采用紫外线光刻技术在阳极氧化铝模板(AAO)上生成预设图案,用物理浸润的方法在图案化的模板上生长聚苯乙烯,最后用NaOH和磷铬酸溶液分别溶解模板.采用扫描电子显微镜(SEM)和电子能谱(EDS)分析.结果表明,制备的图案是直径5μm的圆形组成,圆形图案中心之间距离是10μm,每个圆中长满一维纳米阵列,其纳米特性没有变化. |
| 关 键 词： | 紫外光 苯乙烯 一纳米结构 光刻胶 图案化模板 |
Patterned polystyrene one-dimensional nanostructures arrays |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |