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| 低温（≤400℃）加热器用高辐射高绝缘釉质膜制备技术研究 | |
| 作者姓名： | 吴玮 吴涛 |
| 作者单位： | 黑龙江省电子技术研究所，哈尔滨市西桥红外技术研究所 |
| 摘 要： | 论述了高辐射高绝缘功能釉质膜的制备技术，性能特点及其在工业烤漆和人体理疗设备中的广泛应用前景。 |
| 关 键 词： | 红外辐射 釉质膜 应用 制备 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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