脉冲钨离子注入导致的空洞效应 |
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引用本文: | 杨建华,张通和. 脉冲钨离子注入导致的空洞效应[J]. 功能材料, 2003, 34(4): 403-404,411 |
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作者姓名: | 杨建华 张通和 |
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作者单位: | 1. 南通工学院,物理部,江苏,南通,226007 2. 北京师范大学,物理系,北京,100875 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(59671051),江苏省教育厅自然科学基金资助项目(02KJD490001) |
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摘 要: | 采用由金属蒸汽真空弧(metalvaporvacuumarc,简称MEVVA)离子源引出的强束流脉冲钨离子对H13钢进行了离子注入表面改性研究。在注入剂量为1×1017cm-2,温度为200℃以下,观察到强束流脉冲钨离子注入导致的空洞和空洞的硬化及脆化效应,分析了空洞对注入钨元素浓度深度分布的影响,基于热峰效应(spike),讨论了空洞的形成原因及其与材料耐磨性的关系。
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关 键 词: | 强束流脉冲钨离子 H13钢 离子注入 表面改性 空洞效应 耐磨性 |
文章编号: | 1001-9731(2003)04-0403-02 |
Voids induced by pulsed tungsten ion mmplantation |
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Abstract: | |
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Keywords: | ion implantation void wear resistance |
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