| 用于MPCVD金刚石薄膜生长的高表面质量HTHP金刚石的制备 |
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| 引用本文： | 段鹏,彭燕,王希玮,韩晓桐,王笃福,胡小波,徐现刚.用于MPCVD金刚石薄膜生长的高表面质量HTHP金刚石的制备[J].材料导报,2021,35(4):34-37,41. |
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| 作者姓名： | 段鹏 彭燕 王希玮 韩晓桐 王笃福 胡小波 徐现刚 |
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| 作者单位： | 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000;济南金刚石科技有限公司,济南 250000;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 250000 |
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| 基金项目： | 山东省重点研发计划;国家重点研发计划;晶体材料国家重点实验室自主课题;山东省自然科学基金重大基础研究项目 |
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| 摘 要： | 高质量的表面加工是金刚石体块和薄膜生长以及器件制备的关键.本实验利用激光切割块状HTHP金刚石,并采用激光共聚显微镜(LEXT)、拉曼光谱(Raman)及X射线光电子谱(XPS)、电子背散射衍射(EBSD)分析金刚石的表面形貌、抛光过程中表面状态的转化情况,以及抛光后金刚石的表面损伤及结晶质量.经过机械抛光和化学机械抛光,激光切割带来的表面碳化层和损伤层被有效去除,金刚石的表面粗糙度达到0.764 nm.进一步地,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在HTHP金刚石籽晶上沉积同质薄膜材料,获得生长条纹规则、低应力、拉曼半宽2.1 cm-1、XRD半宽仅为87arcsec的高质量金刚石薄膜.
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| 关 键 词： | 激光切割 化学机械抛光 HTHP金刚石 MPCVD金刚石薄膜 |
Preparing HTHP Diamond with High Surface Quality for MPCVD Diamond Film Growing |
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| DUAN Peng,PENG Yan,WANG Xiwei,HAN Xiaotong,WANG Dufu,HU Xiaobo,XU Xiangang.Preparing HTHP Diamond with High Surface Quality for MPCVD Diamond Film Growing[J].Materials Review,2021,35(4):34-37,41. |
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| Authors: | DUAN Peng PENG Yan WANG Xiwei HAN Xiaotong WANG Dufu HU Xiaobo XU Xiangang |
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