| N/Ti原子比对TiN膜微结构及性能的影响综合分析 |
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| 引用本文： | 彭立静,张钧,徐晨宁,王晓阳,王美涵.N/Ti原子比对TiN膜微结构及性能的影响综合分析[J].材料保护,2021,54(4):127-132. |
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| 作者姓名： | 彭立静 张钧 徐晨宁 王晓阳 王美涵 |
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| 作者单位： | 沈阳大学机械工程学院辽宁省多组硬质膜研究及应用重点实验室,辽宁沈阳110044 |
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| 摘 要： | TiN硬质膜是很多现有的多组元氮化物硬质膜的基础.N/Ti原子比对TiN硬质膜具有重要影响.结合TiN硬质膜的制备工艺方法,分析了膜层中N含量变化的影响因素及控制方法,详细讨论了N/Ti原子比对TiN膜相组成、硬度、耐摩擦磨损性能、光电性能的影响关系.
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| 关 键 词： | TiN硬质膜 N/Ti原子比 显微硬度 光电性能 |
Effects of N/Ti Atomic Ratio on Microstructure and Properties of TiN Films |
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| PENG Li-jing,ZHANG Jun,XU Chen-ning,WANG Xiao-yang,WANG Mei-han.Effects of N/Ti Atomic Ratio on Microstructure and Properties of TiN Films[J].Journal of Materials Protection,2021,54(4):127-132. |
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| Authors: | PENG Li-jing ZHANG Jun XU Chen-ning WANG Xiao-yang WANG Mei-han |
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