| CVD法制备铝化物涂层装置沉积室内前驱体流场仿真设计研究 |
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| 引用本文： | 张博闻,吴勇,杨甫,黄天纵,孟施旭,赵智鑫. CVD法制备铝化物涂层装置沉积室内前驱体流场仿真设计研究[J]. 材料保护, 2021, 54(5): 1-6 |
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| 作者姓名： | 张博闻 吴勇 杨甫 黄天纵 孟施旭 赵智鑫 |
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| 作者单位： | 武汉材料保护研究所有限公司,湖北武汉430030;特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室,湖北武汉430030;武汉材料保护研究所有限公司,湖北武汉430030;武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉430070 |
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| 摘 要： | 为了制备均匀的CVD铝化物涂层,应保证沉积室内前驱气体的流场分布的均匀性.采用计算流体力学方法对沉积室内的前驱流体流场进行了仿真研究,对比了装备A、B、C型3种布风装置的CVD沉积室内流场的变化;对比了将初始进气口平均流速v经验提升至其1.5,2.0,2.5,5.0倍后沉积室内流场的变化.结果 表明:选择B型布风装置能...
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| 关 键 词： | CVD 铝化物涂层 计算流体力学 仿真设计 |
The Analogue Design Research of Precursor Gas Flow Field in the Deposition Chamber for Aluminide Coating Device Deposited by the CVD Method |
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| ZHANG Bo-wen,WU Yong,YANG Fu,HUANG Tian-zong,MENG Shi-xu,ZHAO Zhi-xin. The Analogue Design Research of Precursor Gas Flow Field in the Deposition Chamber for Aluminide Coating Device Deposited by the CVD Method[J]. Journal of Materials Protection, 2021, 54(5): 1-6 |
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| Authors: | ZHANG Bo-wen WU Yong YANG Fu HUANG Tian-zong MENG Shi-xu ZHAO Zhi-xin |
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