| Cr及Cr-Ni掺杂对不同偏压下TiAlN薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 梁伟忠,王成磊,张可翔,梁朝杰,谢映光,林德民. Cr及Cr-Ni掺杂对不同偏压下TiAlN薄膜性能的影响[J]. 材料保护, 2021, 54(2): 76-80 |
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| 作者姓名： | 梁伟忠 王成磊 张可翔 梁朝杰 谢映光 林德民 |
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| 作者单位： | 桂林电子科技大学材料科学与工程学院,广西桂林 541004;桂林电子科技大学材料科学与工程学院,广西桂林 541004;桂林电子科技大学广西电子信息材料构效关系重点实验室,广西桂林 541004;广西鸣新底盘部件有限公司,广西桂林 541004 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;广西自然科学基金;广西自然科学基金;湖南省科技创新计划;桂林市科学研究与科技开发计划;桂林市科学研究与科技开发计划;广西电子信息材料构效关系重点实验室基金;广西电子信息材料构效关系重点实验室基金;研究生教育创新项目 |
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| 摘 要： | 为了使4Cr13不锈钢表面性能得到更好的优化和获得镀膜最佳的偏压工艺,在不同的偏压工艺下,采用多弧离子镀技术和磁控溅射技术在4Cr13不锈钢表面沉积掺杂Cr和同时掺杂Cr、Ni的TiAlN薄膜.采用附着力自动划痕仪研究不同偏压条件下薄膜与基体的结合力,采用扫描电子显微镜观察和分析薄膜的表面形貌,采用XRD技术检测薄膜的...
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 磁控溅射 偏压 掺杂 Cr Ni TiAlN薄膜 |
Effects of Doping Cr and Cr-Ni on the Properties of TiAlN Thin Films under Different Bias Voltage |
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| LIANG Wei-zhong,WANG Cheng-lei,ZHANG Ke-xiang,LIANG Chao-jie,XIE Ying-guang,LIN De-min. Effects of Doping Cr and Cr-Ni on the Properties of TiAlN Thin Films under Different Bias Voltage[J]. Journal of Materials Protection, 2021, 54(2): 76-80 |
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| Authors: | LIANG Wei-zhong WANG Cheng-lei ZHANG Ke-xiang LIANG Chao-jie XIE Ying-guang LIN De-min |
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