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磁控溅射功率对玻璃基DLC薄膜的结构和硬度的影响
引用本文:刘翔,赵青南,张泽华,李渊,曾瑧,董玉红,赵杰.磁控溅射功率对玻璃基DLC薄膜的结构和硬度的影响[J].硅酸盐通报,2018,37(10):3049-3053.
作者姓名:刘翔  赵青南  张泽华  李渊  曾瑧  董玉红  赵杰
作者单位:武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉 430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁 223800;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁,223800
基金项目:国家"十三五"重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)
摘    要:用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/SiC/DLC(diamond-like carbon)薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度.结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0.56,镀膜玻璃的硬度值最大(830 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23.88%.

关 键 词:DLC薄膜  硬度  磁控溅射功率  过渡层SiC  

Effects of Sputtering Power on Structure and Hardness of DLC Thin Films Deposited on Glass Substrates
LIU Xiang,ZHAO Qing-nan,ZHANG Ze-hua,LI Yuan,ZENG Zhen,DONG Yu-hong,ZHAO Jie.Effects of Sputtering Power on Structure and Hardness of DLC Thin Films Deposited on Glass Substrates[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2018,37(10):3049-3053.
Authors:LIU Xiang  ZHAO Qing-nan  ZHANG Ze-hua  LI Yuan  ZENG Zhen  DONG Yu-hong  ZHAO Jie
Abstract:
Keywords:
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