| 衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响 |
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| 引用本文： | 陈永生,杨仕娥,卢景霄,王海燕,李瑞. 衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响[J]. 太阳能学报, 2006, 27(2): 116-120 |
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| 作者姓名： | 陈永生 杨仕娥 卢景霄 王海燕 李瑞 |
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| 作者单位： | 郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室,郑州,450052 |
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| 摘 要： | 对在不锈钢和玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜进行了拉曼光谱和扫描电子显微(SEM)分析。拉曼分析显示在相同的工艺参数下,玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜的晶化率高于不锈钢衬底上沉积的薄膜,这可能是由于衬底与等离子体之间的电势差不同和衬底表面形貌两方面所致。SEM观察表明玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜由尺寸介于200～100nm的团簇构成。
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| 关 键 词： | 等离子体辅助化学气相沉积 拉曼散射谱 晶化率 团簇 |
| 文章编号： | 0254-0096（2006）02-0116-05 |
| 收稿时间： | 2004-06-10 |
| 修稿时间： | 2004-06-10 |
A STUDY FOR MICROSTRUCTURE OF μc-Si: H FILMS DEPOSITED ON GLASS AND STAINLESS STEEL SUBSTRATES |
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| Chen Yongsheng,Yang Shie,Lu Jingxiao,Wang Haiyan,Li Rui. A STUDY FOR MICROSTRUCTURE OF μc-Si: H FILMS DEPOSITED ON GLASS AND STAINLESS STEEL SUBSTRATES[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2006, 27(2): 116-120 |
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| Authors: | Chen Yongsheng Yang Shie Lu Jingxiao Wang Haiyan Li Rui |
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| Affiliation: | Key lab of material physics, Department of Physics, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) raman scattering spectroscopy crystalline volume fraction cluster |
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