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| 影响PCVD TiN涂层中Cl含量的因素 | |
| 作者姓名： | 李松辉 陈大凯 |
| 作者单位： | 武汉市科学技术委员会，武汉钢铁学院 |
| 摘 要： | 叙述了ＴｉＮ沉积过程中影响Ｃｌ含量的主要参数（如：Ｈ２，温度等），得出了一些具有实用价值的结论。 |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 氮化钛 氯 含量 涂层 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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