首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能
引用本文:诸葛兰剑,吴雪梅,姚伟国.Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能[J].材料研究学报,2003,17(2):205-209.
作者姓名:诸葛兰剑  吴雪梅  姚伟国
作者单位:苏州大学分析测试中心,苏州大学,苏州大学 苏州市 215006
基金项目:江苏省教委自然科学基金98KJD430001,苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室T2108104资助项目
摘    要:用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响。在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度Ms.加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高.在500℃退火后,A1的原子分数为10.0%的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc分别为2.02T和0.96kA/m.

关 键 词:金属材料  磁性能  离子束溅射  FeAlN薄膜  热稳定性  氯化钠单晶基片  铁铝氮薄膜
文章编号:1005-3093(2003)02-0205-05
修稿时间:2002年4月15日

Preparation and magnetic properties of Fe-Al-N thin films
ZHUGE Lanjian WU Xuemei YAO Weiguo.Preparation and magnetic properties of Fe-Al-N thin films[J].Chinese Journal of Materials Research,2003,17(2):205-209.
Authors:ZHUGE Lanjian WU Xuemei YAO Weiguo
Abstract:
Keywords:metallic materials  magnetic property  ion beam sputtering  FeAIN thin films  thermal stability  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号