| 18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析 |
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| 引用本文： | 王占山.18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析[J].光学精密工程,1999,7(3). |
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| 作者姓名： | 王占山 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春,130022 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目，吉林省杰出青年科学基金 |
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| 摘 要： | 软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段.由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用.本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导.
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| 关 键 词： | 软X射线多层膜 Schwarzschild物镜 带宽匹配 |
The Analysis of Multilayer Waveband Matching for Schwarzschild Objective Working at 18.2nm |
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| WANG Zhan-Shan.The Analysis of Multilayer Waveband Matching for Schwarzschild Objective Working at 18.2nm[J].Optics and Precision Engineering,1999,7(3). |
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| Authors: | WANG Zhan-Shan |
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