|
|||||
|
|
| 硅单晶厂氩气净化、提纯与回收方案的选择 | |
| 引用本文： | 张忆延.硅单晶厂氩气净化、提纯与回收方案的选择[J].稀有金属,1988(5). |
| 作者姓名： | 张忆延 |
| 作者单位： | 天津电子材料研究所 |
| 摘 要： | 目前,在硅单晶制备中主要采用氩气保护成晶工艺。其中,根据硅单晶品种不同,采用的工艺也有所区别。在我国,一般区熔法制备硅单晶和φ50mm 以下的直拉成晶工艺多采用正压工艺,而φ50mm 以上的硅单 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |