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| 功能薄膜材料多晶硅的制备及光电特性研究 | |
| 引用本文： | 吴萍,林旋英.功能薄膜材料多晶硅的制备及光电特性研究[J].材料导报,1999,13(6):62-64. |
| 作者姓名： | 吴萍 林旋英 |
| 作者单位： | 广东汕头大学理学院物理系，广东汕头大学理学院物理系，广东汕头大学理学院物理系，广东汕头大学理学院物理系 汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063 |
| 摘 要： | 用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）制备掺杂和本片的ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜，用固相晶化法制备多晶硅薄膜。通过Ｘ射线衍射分析多晶硅的晶粒大小与ａ－Ｓｉ：Ｈ的沉积条件及退火条件的关系，测量了子多晶硅薄膜的室温暗电导率和光能隙，讨论了影响暗导导率和光能隙的因素。 |
| 关 键 词： | 多晶硅 固相晶化 光电特性 功能薄膜材料 |
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