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| 国际新闻 | |
| 摘 要： | 正应用材料公司推出存储器件先进图形生成解决方案日前,应用材料公司宣布与三星电子有限公司及韩国光刻去胶设备制造商PSK公司合作,开发出一款面向下一代NAND和DRAM存储器件的先进图形生成解决方案。这款全新解决方案包括两大部 |
| 关 键 词： | 存储器件 图形生成 应用材料公司 国际新闻 去胶 三星电子 意法半导体 安森美半导体 英飞凌 NAND |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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