| CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响 |
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| 引用本文： | 马捷,毕安园,王从曾,周美玲.CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):1965-1968. |
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| 作者姓名： | 马捷 毕安园 王从曾 周美玲 |
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| 作者单位： | 北京工业大学,功能材料教育部重点实验室,北京,100022 |
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| 基金项目： | 国家“863”计划项目（2003AA305990） |
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| 摘 要： | 介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法。以MoF_6和H_2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层。分析研究了沉积层的组织、结构和硬度。实验结果表明：沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa：沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 钼 显微组织 |
| 文章编号： | 1002-185X(2005)12-1965-04 |
| 收稿时间： | 2005-04-04 |
| 修稿时间： | 2005-09-23 |
Effect of Chemical Vapor Deposition Temperature on Microstructures and Properties of Molybdenum Coatings |
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| Ma Jie,Bi Anyuan,Wang Congzeng,Zhou Meiling.Effect of Chemical Vapor Deposition Temperature on Microstructures and Properties of Molybdenum Coatings[J].Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1965-1968. |
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| Authors: | Ma Jie Bi Anyuan Wang Congzeng Zhou Meiling |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | chemical vapor deposition molybdenum microstructures |
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