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| 利用共焦显微技术测试亚微米尺寸 | |
| 引用本文： | 邓君龙,潘文伟,刘甫毅. 利用共焦显微技术测试亚微米尺寸[J]. 微电子技术, 1999, 0(1) |
| 作者姓名： | 邓君龙 潘文伟 刘甫毅 |
| 作者单位： | 中国华晶电子集团公司掩模工厂!无锡，214061 |
| 摘 要： | 当集成电路制造工艺线宽进入亚微米领域时，精确、稳定的测试亚微米、深亚微米线宽／间距尺寸，将成为重要而迫切的研究课题。本文主要阐述以光学原理为基础的共焦显微技术，以及利用共焦技术制造的LWM200型测试仪的性能，测试0．5μm，0．3μm的黑／白条宽，及其仪器测试性能分析。 |
| 关 键 词： | 共焦显微技术 CD值 定义缺陷尺寸 Nipkow盘 stepper版 |
Using Confocal Micio-tech to Measuse Sub-micion |
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| Deng junlong, Pan Wenwei, Liu Puyi. Using Confocal Micio-tech to Measuse Sub-micion[J]. Microelectronic Technology, 1999, 0(1) | |
| Authors: | Deng junlong Pan Wenwei Liu Puyi |
| Abstract: | |
| Keywords: | Conforal micro-tech Defined size of defect Critical dimension Nipkow dish |
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