|
|||||
|
|
| 磁带的摩擦——有关理论及测定 | |
| 作者姓名： | 裘照耀 黄毓礼 王平 牛爱洁 |
| 作者单位： | 北京化工学院高分子系，北京化工学院高分子系，北京化工学院高分子系，北京化工学院高分子系 |
| 摘 要： | <正> 随着磁记录系统向高密度、高分辨率和高速度的方向发展,为保证信息存储和输出的可靠性,要求磁头和磁带的接触愈来愈紧密,磁带的耐磨性和耐用性愈来愈高。同时,还要求磁头和磁带的接触张力及带速在运转过程中保持恒定。因此,如何减少磁带与磁头及驱动部 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |