| 高纯电子气体中金属杂质分析方法概述 |
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| 引用本文： | 张文娟.高纯电子气体中金属杂质分析方法概述[J].广州化工,2015(14). |
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| 作者姓名： | 张文娟 |
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| 作者单位： | 贵州理工学院,贵州贵阳,550003 |
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| 基金项目： | 贵州理工学院科学基金项目电子气体主要杂质分析---SiF4中痕量金属杂质的检测(合同编号 XJ2K20130813)。 |
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| 摘 要： | 概述了高纯电子气体中金属杂质的来源及测定高纯气体中金属粒子的前处理方法和检测手段。选定检测手段从最初的单一仪器检测逐渐过渡到仪器间的联合检测。选用合适的检测方法,满足痕量杂质(10-9级)、复杂组分的分析要求。这样能更精准的检测出更多金属种类。不仅提供对半导体生产中沾污的测试手段,而且对高纯气体的生产、包装等具有非常重要的意义。
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| 关 键 词： | 高纯气体 金属粒子 检测方法 |
Overview of Metal Impurities Analysis in High Purity Electron Gas |
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| ZHANG Wen-juan.Overview of Metal Impurities Analysis in High Purity Electron Gas[J].GuangZhou Chemical Industry and Technology,2015(14). |
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| Authors: | ZHANG Wen-juan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | high purity gases metallics detection |
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