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使用点气体纯度保证技术
引用本文:Hard.,SJ 胡永清.使用点气体纯度保证技术[J].微电子学,1989,19(4):76-79.
作者姓名:Hard.  SJ 胡永清
作者单位:Hercules公司
摘    要:气体纯度仍然被认为是一个主要的工艺变量;只是在目前通过一种新的纯化方法的实际采用,使得使用点气体纯化处理得到了广泛认可。

关 键 词:半导体加工  气体  纯度  纯化处理  
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