| O2压对脉冲激光沉积ZnO薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 滕晓云,刘彩池,郝秋艳,张丽,许贺菊,于威.O2压对脉冲激光沉积ZnO薄膜性能的影响[J].光电子．激光,2007,18(9):1058-1060. |
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| 作者姓名： | 滕晓云 刘彩池 郝秋艳 张丽 许贺菊 于威 |
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| 作者单位： | 河北工业大学材料学院,天津,300130;河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,071002;河北工业大学材料学院,天津,300130;河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,071002 |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积(PLD)法在Al2O3(0002)衬底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、霍尔电导测量和透射光谱等表征技术研究了工作O2压对ZnO薄膜的结晶特性、电学和光学性能的影响.研究结果显示:在133×10-1～266×10-2 Pa内,ZnO薄膜的晶粒尺度随工作O2压的增加而增加,晶体结构趋于完整,表面更加平整;当工作O2压为266×10-1 Pa时,ZnO薄膜的表面粗糙度有所增加,薄膜的结晶质量恶化;工作O2压的不同导致ZnO薄膜的电学、光学特性的变化.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 O2压 脉冲激光沉积(PLD) |
| 文章编号： | 1005-0086（2007）09-1058-03 |
| 收稿时间： | 2006/11/7 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2006-11-072007-03-06 |
Influences of Oxygen Pressure on the Properties for ZnO Films Deposited by Pulsed Laser Deposition |
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| TENG Xiao-yun,LIU Cai-chi,HAO Qiu-yan,ZHANG Li,XU He-ju,YU Wei.Influences of Oxygen Pressure on the Properties for ZnO Films Deposited by Pulsed Laser Deposition[J].Journal of Optoelectronics·laser,2007,18(9):1058-1060. |
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| Authors: | TENG Xiao-yun LIU Cai-chi HAO Qiu-yan ZHANG Li XU He-ju YU Wei |
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| Affiliation: | 1. School of Material Science and Engineering, Hehei University of Technology, Tianjin 300130, China; 2. College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO films oxygen pressure pulsed laser deposition |
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