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湿法腐蚀制备的SOI光波导
引用本文:王小龙,严清峰,刘敬伟,陈少武,余金中.湿法腐蚀制备的SOI光波导[J].半导体学报,2003,24(10).
作者姓名:王小龙  严清峰  刘敬伟  陈少武  余金中
作者单位:中国科学院半导体研究所,光电子研究发展中心,北京,100083
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国家高技术研究发展计划(863计划),国家自然科学基金
摘    要:用化学湿法腐蚀的方法制作了SOI光波导,并且用三维波束传播方法分析和设计了单模波导和1×2 3dB多模干涉分束器,修正了有效折射率和导模传输方法的误差.制作的器件具有低传输损耗(-1.37dB/cm)、低附加损耗(-2.2dB)、良好的均衡性(0.3dB)等优良性能.

关 键 词:SOI  湿法腐蚀  多模干涉  单模波导

SOI Waveguides Fabricated by Wet-Etching Method
Wang Xiaolong,Yan Qingfeng,Liu Jingwei,Chen Shaowu,Yu Jinzhong.SOI Waveguides Fabricated by Wet-Etching Method[J].Chinese Journal of Semiconductors,2003,24(10).
Authors:Wang Xiaolong  Yan Qingfeng  Liu Jingwei  Chen Shaowu  Yu Jinzhong
Abstract:SOI waveguides fabricated by wet-etching method are demonstrated.The single mode waveguide and 1×2 3dB MMI splitter are analyzed and designed by three dimensional beam propagation method to correct the error of effective index method and guided mode method.The devices are fabricated.Excellent performances,such as low propagation loss of -1.37dB/cm,low excess loss of -2.2dB,and good uniformity of 0.3dB,are achieved.
Keywords:SOI  wet-etching  multimode interference  single mode waveguide
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