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85KA预焙电解槽工艺条件的选择和优化
引用本文:魏自帅,李希明.85KA预焙电解槽工艺条件的选择和优化[J].铝镁通讯,2002(1):23-25.
作者姓名:魏自帅  李希明
摘    要:介绍了85KA中间点式下料预焙电解槽在使用计算机模糊控制技术的前提下,采用“四低一高”(低电解温度、低分子比、低氧化铝浓度、低效应系数、高工作电压)工艺技术条件,提高电流效率,降低直流电耗,取得明显的效果。

关 键 词:预焙电解槽    电解槽  工艺  技术条件  智能模糊控制技术  85KA型
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