85KA预焙电解槽工艺条件的选择和优化 |
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引用本文: | 魏自帅,李希明.85KA预焙电解槽工艺条件的选择和优化[J].铝镁通讯,2002(1):23-25. |
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作者姓名: | 魏自帅 李希明 |
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摘 要: | 介绍了85KA中间点式下料预焙电解槽在使用计算机模糊控制技术的前提下,采用“四低一高”(低电解温度、低分子比、低氧化铝浓度、低效应系数、高工作电压)工艺技术条件,提高电流效率,降低直流电耗,取得明显的效果。
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关 键 词: | 预焙电解槽 铝 电解槽 工艺 技术条件 智能模糊控制技术 85KA型 |
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