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QAl9-4/Cu同基合金离子镀研究
引用本文:侯文义,赵兴国,孙亦蕙,袁庆龙,梁伟.QAl9-4/Cu同基合金离子镀研究[J].金属热处理,2005,30(3):5-8.
作者姓名:侯文义  赵兴国  孙亦蕙  袁庆龙  梁伟
作者单位:1. 太原理工大学,机械工程学院,山西,太原,030024
2. 太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024
3. 山西工程职业技术学院,教务处,山西,太原,030009
基金项目:山西省自然科学基金项目 ( 20041060 ),山西省归国留学生基金项目(194 101062)
摘    要:对QA19-4铝青铜及纯铜进行了QA19-4/Cu同基合金电弧离子镀试验。扫描电镜、能谱仪及x射线衍射仪分析结果表明,在不加磁控的情况下,镀层组织为厚度约3μm的层片状,组织中除α相外还存在β、γ2等金属间化合物。镀层显微硬度高达216—256HV0.05,声发射划痕仪测试确认镀层与基材结合强度良好,未出现剥离信号;但镀层偏厚时试样出现崩裂信号,表明镀层有一定脆性,且存在较大的内应力。

关 键 词:表面改性  离子镀  同基合金
文章编号:0254-6051(2005)03-0005-04
修稿时间:2004年10月13

Ion Plating of Same Basic Component for Both Deposited Layer and the Substrate(QAl9-4/Cu)
HOU Wen-yi,ZHAO Xing-guo,SUN Yi-hui,YUAN Qing-long,LIANG Wei.Ion Plating of Same Basic Component for Both Deposited Layer and the Substrate(QAl9-4/Cu)[J].Heat Treatment of Metals,2005,30(3):5-8.
Authors:HOU Wen-yi  ZHAO Xing-guo  SUN Yi-hui  YUAN Qing-long  LIANG Wei
Affiliation:HOU Wen-yi~1,ZHAO Xing-guo~2,SUN Yi-hui~3,YUAN Qing-long~1,LIANG Wei~2
Abstract:
Keywords:surface modification  ion plating  same basic component for both deposited layer and the substrate
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