Ho^3+离子在YAG和YLF晶体中的光学参量 |
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引用本文: | 黄莉蕾,陈晓竹.Ho^3+离子在YAG和YLF晶体中的光学参量[J].光学仪器,1997,19(4):45-50. |
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作者姓名: | 黄莉蕾 陈晓竹 |
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作者单位: | 中国计量学院电子研究所 |
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摘 要: | 测试了Ho:YAG和Ho:YLF晶体的吸收谱和荧光谱,计算Ho^3+离子的振子强度参数fJ,J1^[c],辐射跃迁几率AJ,J1,荧光辐射寿命τJ^[c],并与实验测得的荧光辐射寿命τJ^[c]及振子强度的实验值fJ[c]比较。应用跃速率方程计算得出对应2.1μm的荧光强度最大的掺杂离子Ho^3+的最佳浓度分别为-2.5%和-1%左右。讨论了YAG和YLF作为掺Ho^3+的基质晶体优点。
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关 键 词: | 钬离子 YAG晶体 YLF晶体 光学参量 |
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