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| 知识园地 | |
| 作者姓名： | 朱祖昌 薄鑫涛 |
| 摘 要： | 新一代高性能薄膜的触媒化学气相沉积(Calalytic Chemical Vapor Deposition)Cat-CVD方法是在下图(b)所示的装置中进行。原料气在基板附近安置的触媒体发生接触分解,传输至基板区域,在基板上因承受少的热量致使在400℃以下的低温基板上形成高质量薄膜。 |
| 关 键 词： | 知识园 化学气相沉积 基板 原料气 触媒 高质量薄膜 高性能 装置 传输 分解 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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