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掺杂TiO2的纳米多孔SiO2薄膜的制备及性能研究
引用本文:陈娟 张瑾 蒋继富 王向前 柳清菊. 掺杂TiO2的纳米多孔SiO2薄膜的制备及性能研究[J]. 材料导报, 2007, 21(F11): 99-101
作者姓名:陈娟 张瑾 蒋继富 王向前 柳清菊
作者单位:云南大学材料科学与工程系,昆明650091
基金项目:云南省应用基础研究计划重点项目(2006E0001Z)资助
摘    要:采用溶胶-凝胶法、分子模板法及旋转涂覆法在硅衬底上制备掺杂TiO2的SiO2薄膜,并采用差热分析(DSC-TGA)、红外吸收光谱(FTIR)、X射线衍射、小角衍射(SAXS)、原子力显微镜(AFM)、台阶仪(Atomic-Profiler)以及纸擦拭法(paper-wiping method)和胶带剥离法(adhesive tpe-stripping method)对薄膜的性能进行了分析与表征,结果表明,薄膜的最佳热处理温度为400℃,所制备的掺杂TiO2的SiO2薄膜为多孔结构的无定形态,具有较好的机械性能,平均孔径随着膜层的增加而减小,一层膜和两层膜的平均孔径分别为87.4nm和62.8nm,厚度分别为538.7nm和1032.3nm。

关 键 词:掺杂TiO2的纳米多孔SiO2薄膜 溶胶-凝胶法 分子模板法

Study on Preparation and Properties of TiO2-Doped Nanoporous SiO2 Films
CHEN Juan, ZHANG Jin,JIANG Jifu, WANG Xiangqian, LIU Qingju. Study on Preparation and Properties of TiO2-Doped Nanoporous SiO2 Films[J]. Materials Review, 2007, 21(F11): 99-101
Authors:CHEN Juan   ZHANG Jin  JIANG Jifu   WANG Xiangqian   LIU Qingju
Abstract:
Keywords:TiO2-doped nanoporous SiO2 films   sol-gel method   molecular-template method
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