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MPCVD金刚石膜的品质对其在K-Ka波段微波介电性能的影响
作者单位:;1.北京科技大学新材料技术研究院;2.清华大学微电子学研究所;3.河北省激光研究所
摘    要:针对MPCVD金刚石膜K-Ka波段(18~40 GHz)微波电子器件领域的应用需求,以及探索金刚石膜介电性能与品质之间的关系的需要,制备了5个金刚石膜样品,并建立了一套K波段分体圆柱谐振腔微波介电性能测试装置。使用Raman光谱表征金刚石膜质量,采用K波段分体圆柱谐振腔测量金刚石膜的介电性能,并与Ka波段的结果进行比较。结果表明,不同品质的样品介电损耗在3.8×10~(-5)~76.8×10~(-5)范围内,且介电损耗与Raman半峰宽密切相关。同时,高品质金刚石膜K波段介电损耗高于Ka波段,而低品质的则呈现相反的结果。这是由于高品质金刚石膜介电损耗主要由导电性引起,而低品质金刚石膜内较高的缺陷密度导致单声子声学振动吸收和瑞利散射较大。

关 键 词:MPCVD金刚石膜  拉曼光谱  品质  分体圆柱谐振腔  介电性能  K-Ka波段

Effect of qualities of MPCVD diamond film on microwave dielectric properties in K-Ka band
Abstract:
Keywords:
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