|
|||||
|
|
| 65nm反相器单粒子瞬态脉宽分布的多峰值现象 | |
| 作者单位： | ;1.北京微电子技术研究所;2.哈尔滨工业大学 |
| 摘 要： | 基于65 nm工艺下单粒子瞬态脉宽检测电路,在重离子辐照下,对目标单元单粒子瞬态脉宽进行了测试。针对实验结果中单粒子瞬态脉宽分布出现多峰的现象进行了分析。详细对比了反相器多峰现象与LET值、温度、阈值电压间的关系。通过TCAD仿真分析了多峰现象的原因,即PMOS由于寄生双极效应,在高LET粒子攻击下产生的瞬态脉冲脉宽大于粒子攻击NMOS产生的瞬态脉冲脉宽。高温条件会使得寄生双极效应更加严重,因此在高温条件下脉宽分布的多峰现象更加明显。 |
| 关 键 词： | 单粒子瞬态 多峰现象 65 nm反相器 |
The multi-peak phenomenon in 65 nm inverters single event transient pulse width distribution |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |