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| 硅片清洗技术进展 | |
| 作者姓名： | 江海兵 |
| 作者单位： | 衢州学院机电控制工程系,浙江,衢州,324000 |
| 摘 要： | 在分析抛光硅片表面沾污类型的基础上,对目前硅片主要清洗方法的工作原理、清洗效果、适用范围等特点进行研究,重点研究硅片激光干法清洗原理和特点. |
| 关 键 词： | 硅片 沾污类型 清洗 激光干法清洗 |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
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