首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

二步含氯氧化处理技术报告:—一种新的与器件工艺相结合的吸除技术
作者姓名:张建宇 陈康民
摘    要:

关 键 词:VLSI ULSI 工艺 氯 氧化处理 吸除
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号