| 真空蒸镀TiNiPd形状记忆合金薄膜研究 |
| |
| 引用本文： | 钱士强,吴建生.真空蒸镀TiNiPd形状记忆合金薄膜研究[J].机械工程材料,2005,29(8):26-29. |
| |
| 作者姓名： | 钱士强 吴建生 |
| |
| 作者单位： | 1. 上海工程技术大学材料工程学院,上海,200336;上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030
2. 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030 |
| |
| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项基金资助项目（20020248037）;上海市科技发展基金资助项目（02DJ14042） |
| |
| 摘 要： | 通过真空蒸镀方法在硅片和玻片上制备了TiNiPd合金薄膜,使用能谱仪、差示扫描量热法和X射线衍射等方法,研究了薄膜的成分及随退火温度上升的晶化和结构变化情况。结果表明:真空蒸镀薄膜成分偏离镀材成分,钛含量降低,钯、镍含量升高;真空蒸镀薄膜的晶化温度在600℃左右;B2相、B19相和B19′相是真空蒸镀薄膜在晶化处理后的主要组成相;450℃×5 h预处理促进B2相向B19′相转变。
|
| 关 键 词： | TiNiPd 薄膜 真空蒸镀 形状记忆合金 |
| 文章编号： | 1000-3738（2005）08-0026-04 |
| 收稿时间： | 2004-05-19 |
| 修稿时间： | 2004-05-192004-07-27 |
TiNiPd Shape Memory Alloy Films Made by Vacuum Evaporation |
| |
| QIAN Shi-qiang,WU Jian-sheng.TiNiPd Shape Memory Alloy Films Made by Vacuum Evaporation[J].Materials For Mechanical Engineering,2005,29(8):26-29. |
| |
| Authors: | QIAN Shi-qiang WU Jian-sheng |
| |
| Affiliation: | QIAN Shi-qiang~ |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | TiNiPd thin film vacuum evaporation shape memory alloy |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
