垂直磁记录CoCr薄膜取向特性分析 |
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作者姓名: | 阎明朗 杨正 |
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作者单位: | 兰州大学,中国科学院物理研究所211组 |
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摘 要: | 用VSM测量了不同最大外磁下CoCr薄膜的磁滞回线角度关系,分析了不同矫顽力Hc和不同膜厚tm薄膜的矩形比S(θ)和取向度OR(θ)特性,讨论了垂直磁记录用CoCr薄膜的取向特性,虽然CoCr合金薄膜有较好的晶体学取向(小的Aθ50),但低矫顽力Hc薄膜在剩磁状态磁化强度易轴明显偏离薄膜的垂直方向,而高矫顽力Hc1薄膜,无论外场怎样变化,磁化强度易轴总是垂直薄膜平面。膜厚增加,磁化强度垂直取向度变好。
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关 键 词: | 垂直磁记录,CoCr薄膜,取向 |
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