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溅射法制备a-GaN薄膜的光学性质
引用本文:贾璐,谢二庆,潘孝军,张振兴. 溅射法制备a-GaN薄膜的光学性质[J]. 半导体学报, 2006, 27(z1): 109-112
作者姓名:贾璐  谢二庆  潘孝军  张振兴
作者单位:兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
摘    要:利用直流磁控溅射方法制备了非晶氮化镓(a-GaN)薄膜.X射线衍射分析以及傅里叶变换红外吸收谱表明薄膜是非晶结构.通过紫外-可见光谱测量得到,样品随着衬底温度的升高而变厚,光学带隙随着衬底温度的升高而变小,Ar对薄膜的光学带隙和表面粗糙程度有很大的影响.

关 键 词:直流溅射  a-GaN薄膜  光学带隙  吸收系数
文章编号:0253-4177(2006)S0-0109-04
修稿时间:2005-10-30

Optical Properties of a-GaN Deposited by Sputtering
Jia Lu,Xie Erqing,Pan Xiaojun,Zhang Zhenxing. Optical Properties of a-GaN Deposited by Sputtering[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2006, 27(z1): 109-112
Authors:Jia Lu  Xie Erqing  Pan Xiaojun  Zhang Zhenxing
Abstract:
Keywords:
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