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| 一般性问题 | |
| 摘 要： | TN052006020001CCD制造的关键工艺/武利翻(重庆邮电学院)//光电技术应用.―2005,20(1).―38～42.CCD(电荷藕合器件)是一种在硅集成电路工艺线上制作的图像传感器。介绍了CCD的基本工作原理和制造的单项工艺,并详细介绍了其关键工艺:氧化、光刻、离子注入,还对各工艺所遇到的问题、相应的解决方法及发展状况进行了阐述。图4表0参14TN072006020002无线电波吸收隔离屏设计/朱辉(中国西南电子技术研究所)//电讯技术.―2005,45(2).―169～172.在阐述无线电波吸收隔离屏的概念、用途和原理的基础上,介绍了吸波材料的特性,论述了无线电波吸收… |
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