掺硼金刚石膜微电极的电化学性能

掺硼金刚石膜(BDD)具有良好的力学性质、生物相容性和表面抗污染性,有望在体内植入中保持长期的稳定性。以液态硼酸三甲酯为硼源,采用光刻工艺和选择性生长法制备线宽为200μm和100μm的BDD膜叉指微电极,所制备的微电极边界清晰规整、薄膜质量良好,图形区薄膜的选择性高。采用电化学工作站表征电极在电解质溶液中的循环伏安行为和阻抗特性,结果表明:掺硼金刚石膜电极的尺寸和形状对电化学窗口和背景电流影响较小。200μm和100μm的叉指电极相邻微带电极间扩散方式分别是线性扩散和半球形稳态扩散,100μm叉指电极的CV曲线趋近于半球形稳态扩散的S形。掺硼金刚石膜微电极只有一个时间常数,将利于物质的快速和准确检出。